a002_半导体物理


【物理】半导体物理 西安电子科技大学 柴常春等主讲_哔哩哔哩_bilibili


  • 1.0.1化学键性质与相应的晶体结构(I)(Av970625777,P1)
  • 10.0.10砷化镓晶体的极性3(Av970625777,P10)
  • 11.1.1半导体中的电子状态与能带(1)--1(Av970625777,P11)
  • 12.1.1半导体中的电子状态与能带(1)--2(Av970625777,P12)
  • 13.1.1半导体中的电子状态与能带(2)--1(Av970625777,P13)
  • 14.1.1半导体中的电子状态与能带(2)--2(Av970625777,P14)
  • 15.1.1半导体中的电子状态与能带(3)--1(Av970625777,P15)
  • 16.1.1半导体中的电子状态与能带(3)--2(Av970625777,P16)
  • 17.1.2半导体中电子的运动 有效质量1(Av970625777,P17)
  • 18.1.2半导体中电子的运动 有效质量2(Av970625777,P18)
  • 19.1.3本征半导体的导电机制 空穴1(Av970625777,P19)
  • 2.0.2化学键性质与相应的晶体结构(II)(Av970625777,P2)
  • 20.1.3本征半导体的导电机制 空穴2(Av970625777,P20)
  • 21.1.4回旋共振(2)1(Av970625777,P21)
  • 22.1.4回旋共振(2)2(Av970625777,P22)
  • 23.1.5Si和Ge的导带结构1(Av970625777,P23)
  • 24.1.5Si和Ge的导带结构2(Av970625777,P24)
  • 25.1.6III-V族化合物半导体的能带结构1(Av970625777,P25)
  • 26.1.6III-V族化合物半导体的能带结构2(Av970625777,P26)
  • 27.2.1Si和Ge中的杂质能级(III)1(Av970625777,P27)
  • 28.2.1Si和Ge中的杂质能级(III)2(Av970625777,P28)
  • 29.2.1Si和Ge中的杂质能级1(Av970625777,P29)
  • 3.0.3化学键性质与相应的晶体结构(III)(Av970625777,P3)
  • 30.2.1Si和Ge中的杂质能级2(Av970625777,P30)
  • 31.2.2III-V族化合物半导体中的杂质和缺陷能级(Av970625777,P31)
  • 32.2.3缺陷 位错能级(Av970625777,P32)
  • 33.3.1状态密度1(Av970625777,P33)
  • 34.3.1状态密度2(Av970625777,P34)
  • 35.3.2费米能级1(Av970625777,P35)
  • 36.3.2费米能级2(Av970625777,P36)
  • 37.3.4杂质半导体中的载流子浓度1(Av970625777,P37)
  • 38.3.4杂质半导体中的载流子浓度2(Av970625777,P38)
  • 39.5.7载流子的漂移运动 爱因斯坦关系(Av970625777,P39)
  • 4.0.4化学键性质与相应的晶体结构(IV)(Av970625777,P4)
  • 40.预备性知识1(Av970625777,P40)
  • 41.预备性知识2(Av970625777,P41)
  • 42.预备性知识3(Av970625777,P42)
  • 43.预备性知识4(Av970625777,P43)
  • 44.预备性知识5(Av970625777,P44)
  • 45.预备性知识6(Av970625777,P45)
  • 46.预备性知识7(Av970625777,P46)
  • 47.预备性知识8(Av970625777,P47)
  • 48.7.1金属与半导体接触及其能带图1(Av970625777,P48)
  • 49.7.1金属与半导体接触及其能带图2(Av970625777,P49)
  • 5.0.5金刚石结构的各向异性(I)(Av970625777,P5)
  • 50.7.2金属半导体整流理论1(Av970625777,P50)
  • 51.7.2金属半导体整流理论2(Av970625777,P51)
  • 52.7.3少数载流子注入和欧姆接触1(Av970625777,P52)
  • 53.7.3少数载流子注入和欧姆接触2(Av970625777,P53)
  • 54.8.2表面电场效应1(Av970625777,P54)
  • 55.8.2表面电场效应2(Av970625777,P55)
  • 56.8.3MIS结构的电容-电压特性(Av970625777,P56)
  • 57.8.4Si-SiO2系统的性质(Av970625777,P57)
  • 58.8.5表面电导及迁移率(Av970625777,P58)
  • 59.8.6表面电场对PN结特性的影响1(Av970625777,P59)
  • 6.0.6金刚石结构的各向异性(II)(Av970625777,P6)
  • 60.8.6表面电场对PN结特性的影响2(Av970625777,P60)
  • 61.9.1异质结及其能带图(Av970625777,P61)
  • 62.9.2异质结的电流输运机构1(Av970625777,P62)
  • 63.9.2异质结的电流输运机构2(Av970625777,P63)
  • 64.9.3异质结在器件中的应用(Av970625777,P64)
  • 65.9.4半导体超晶格(Av970625777,P65)
  • 66.10.1半导体的光学常数(Av970625777,P66)
  • 67.10.2 半导体的光吸收1(Av970625777,P67)
  • 68.10.2 半导体的光吸收2(Av970625777,P68)
  • 69.10.2 半导体的光吸收3(Av970625777,P69)
  • 7.0.7金刚石结构的各向异性(III)(Av970625777,P7)
  • 70.10.3半导体的光电导1(Av970625777,P70)
  • 71.10.3半导体的光电导2(Av970625777,P71)
  • 72.10.4 半导体的光生伏特效应(Av970625777,P72)
  • 73.10.5半导体发光1(Av970625777,P73)
  • 74.10.5半导体发光2(Av970625777,P74)
  • 75.10.6半导体激光1(Av970625777,P75)
  • 76.10.6半导体激光2(Av970625777,P76)
  • 77.10.7半导体光电探测器(Av970625777,P77)
  • 78.11.0半导体的热点性质(Av970625777,P78)
  • 79.12.1霍尔效应1(Av970625777,P79)
  • 8.0.8砷化镓晶体的极性1(Av970625777,P8)
  • 80.12.1霍尔效应2(Av970625777,P80)
  • 81.12.2磁阻效应1(Av970625777,P81)
  • 82.12.2磁阻效应2(Av970625777,P82)
  • 83.12.5热磁效应(Av970625777,P83)
  • 84.12.6光电磁效应1(Av970625777,P84)
  • 85.12.6光电磁效应2(Av970625777,P85)
  • 86.12.7压阻效应(Av970625777,P86)
  • 9.0.9砷化镓晶体的极性2(Av970625777,P9)
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